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      XPS分析

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      簡介

      用X射線照射試料表面,通過觀測脫出的光電子能量可以得到表面數nm的信息。與AES相比,X射線照射范圍為數十μm,面分解能差,但是能量分解能高,所以在化學結合狀態評價方面十分擅長。可以進行元素組成評價、半定量評價,測定深度方向時與Ar光束等濺射并用。可使用絕緣性試料。也常被稱作ESCA。

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      分析特長

      1. 極表面原子分布
      通過獲取試料表面數nm的極表面的元素分布和組成情報,可以評價物質的結合界面等的狀態。
      2. 化學結合狀態分析
      由于能量分解能高,可以評價從物質得到的峰值元素成分。可以評價物質的氧化狀態和金屬間接合狀態等化學狀態。
      3. 深度方向分析
      與Ar濺射蝕刻和電子群等并用不僅可以分析表面還可以對深度方向進行分析。

      4. 角度分解分析

      一邊改變試料的傾斜角(Tilt)一邊進行測定,可以在非破壞及蝕刻后組成無變化的狀態下對表面進行數nm級的深度分析。

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      分析原理

      用X射線照射試料表面,測定從表面脫出的能量。X射線雖然是照射到物質的最深處,但是因為檢出的光電子捕捉到低能量物質,所以可以得到試料表面數nm的情報,對有機物質和絕緣試料等的評價十分容易是其特征。

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      分析用途

      1、元素的定性分析。可以根據能譜圖中出現的特征譜線的位置鑒定除H、He以外的所有元素。

      2、元素的定量分析。根據能譜圖中光電子譜線強度(光電子峰的面積)反應原子的含量或相對濃度。

      3、固體表面分析。包括表面的化學組成或元素組成,原子價態,表面能態分布,測定表面電子的電子云分布和能級結構等。

      4、化合物的結構。可以對內層電子結合能的化學位移精確測量,提供化學鍵和電荷分布方面的信息。

      5、分子生物學中的應用。Ex:利用XPS鑒定維生素B12中的少量的Co。


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